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微弧氧化：通過電解液與相應電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。

微弧復合處理：微弧氧化陶瓷層的多孔結構, 易與多種材料結合形成復合膜層，提供多元化的功能，展現(xiàn)出陶瓷層作為“過渡處理層”的優(yōu)越性。微弧復合是將微弧氧化及滿足產(chǎn)品在不同環(huán)境處理下而選定的后續(xù)涂裝復合而成一種短流程低污染排放的環(huán)衛(wèi)型表面處理技術。

微弧離子鍍: 將真空腔內的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過渡時，氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉變區(qū)間，利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級聯(lián)碰撞脫靶機制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶（未達到熔融噴射程度）機制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應”。 微弧離子鍍的開發(fā)是結合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點，同時也避免了兩者在成膜過程中的不足之處，使成膜質量與效率得以大幅提高。